大日本印刷、３ナノ半導体マスク開発＝最先端のＥＵＶ露光装置に対応

大日本印刷は１２日、半導体のウエハーに回路を焼き付ける際に使う原版「フォトマスク」で、最先端の回路線幅３ナノメートル（ナノは１０億分の１）向けの製品を開発したと発表した。微細な回路形成が可能な極端紫外線（ＥＵＶ）露光装置に対応する。回路線幅が微細な高性能半導体はスマートフォンやデータセンター向けに需要が拡大しており、同社は半導体メーカーや製造装置メーカーなどに販売する方針だ。