［東京　４日　ロイター］ - 日本の半導体新会社ラピダス（東京都千代田区）は、ベルギーの半導体国際研究機関「ｉｍｅｃ（アイメック）」と最先端の露光技術開発で連携することで合意した。

西村康稔経産相が４日午前の会見で明らかにした。西村経産相は「最先端の知識・経験を有する海外研究機関との連携が具体化していくということで歓迎したい」とした上で、「次世代半導体プロジェクトの進ちょくをしっかりと注視しながら必要な支援を最大限行っていきたい」と語った。

３月２９日に契約を締結した。ウエハーに超微細な回路パターンを転写するのに必要なＥＵＶ（極端紫外線）露光技術の開発で協力する。ＥＵＶ露光装置はオランダのＡＳＭＬが市場を独占している。

官民が連携して設立したラピダスは、線幅２ナノメートル（ナノは１０億分の１）の微細な最先端ロジック半導体を開発し、２０２０年代後半に国内の試作ラインで生産を始めることを目指している。

ラピダスは昨年１２月にアイメックと覚書を締結し、最先端半導体の技術開発で連携することで合意した。米ＩＢＭ[IBM.N]とも昨年末に提携した。