Laurie Chen

［北京　１０日　ロイター］ - 中国・北京で１０日、人工知能（ＡＩ）関連会合が開かれ、同国の著名研究者は、中国は、最先端の半導体製造装置不足という課題があるが、リスクを取り、イノベーション（技術革新）を進めることにより米国との技術格差を縮めることができると述べた。

元オープンＡＩのシニアリサーチャーで、昨年１２月に騰訊控股（テンセント・ホールディングス）のチーフＡＩサイエンティストに任命された姚順雨氏は、中国企業が今後３─５年で世界有数のＡＩ企業になる可能性は高いと述べた。ただ高度な半導体製造装置の不足が主な技術的ハードルだと指摘した。

「現在のところ、電力とインフラにおいてかなりの優位性を確保している。主な課題は露光装置を含む生産能力とソフトウェアのエコシステムだ」と述べた。

ロイターは先月、中国が、欧米と肩を並べられるような極端紫外線露光装置の試作機が完成したと報じた。

会議では米国がインフラへの多額の投資によってコンピューティング能力で優位を保っているとの意見が出た。

アリババのＡＩ基盤モデル「通義千問（Ｑｗｅｎ）」の技術責任者、林俊陽氏は「米国のコンピューターインフラは、おそらくわれわれより１桁から２桁規模が大きい。しかしオープンＡＩも他のプラットフォームも次世代研究に多額の投資をしているようだ」と述べる一方で「われわれは比較的資金に乏しく、サービスの提供だけでインフラの大半を消費している可能性が高い」と指摘した。

ただその限られたリソースという環境が、特にアルゴリズムとハードウエアの共同設計を通じて革新的なものに駆り立てたとも述べた。

８日に香港株式市場に上場したＡＩスタートアップ、智譜ＡＩ（Zhipu AI）の創業者の唐ジエ氏も、中国の若いＡＩ起業家らが、米シリコンバレーのように高リスクのベンチャー事業を積極的に受け入れていることは前向きな展開と強調し、その促進を政府が支援することができると指摘した。